毛智彪,南大光电毛智彪

cn102810510a_一种铜互连制作方法失效
cn103293875b_采用八极曝光方式的光刻装置,通光单元及光刻方法有效
光刻生产控制方法
cn106298465a_一种双重曝光的光刻工艺方法失效
cn102364663a_栅极侧墙刻蚀方法,mos器件制造方法以及mos器件失效